这次任务摊在他们身上的应不算重。

    重的应该是那些十年如一日都在攻克光学镜片的科研小组，他们参加过很多次类似于这种光刻机攻克计划。

    但是从来没有像这次一样急迫，因为美国和岛国等国家的压迫, 现在国家的光刻事业已经站在了决战边缘。

    这年来国内也有一定的科研成果。

    2017年smee就验收了90nm光刻机，马上就具备了成本优势和企业规模, 占据了全国60%的市场，全球40%的市场。

    外国怎么能不害怕。

    目前国内比较容易买到里比较先进的光刻机就在曹能能的实验室, 28nm制程, 最高可制造22nm, 但那是从国外买的, 而且也经过了多方的手续。

    221计划的最终目的是突破14nm的光刻机, 并且建设上下游相应的工艺研发生产线，这才是华夏老大难的问题。

    而不是有没有这个技术的问题。

    宋问声是以为国家只能制造90nm的光刻机，进来之后他才发现他这是小瞧了天下英雄。

    其实smee在前年的时候65nm的光刻机已经突破，并且低调封装。

    28nm的光刻机在悄悄研发，目前已经在国家验收当中。

    宋问声的光刻胶其实只是配合曹能能他们实验室改性，做到了193纳米浸润光刻，这个193和晶圆的大小几nm的不一样，193nm说的是光源的波长，除了193之外还有一种248nm的光线。

    这意味着这款光刻胶可以制造14nm到90nm之间的纳米芯片。

    别人过去二十年用的是car，这几年都是在考虑金属氧化物或者干性光刻胶，富勒烯……这是个什么玩意儿？

    富勒烯能够量产了？

    别问，问就是宋问声给雷电科技以及华科的牵线搭桥。

    他手中的富勒烯实验室技术也给了雷电科技，要中试要放大要实现产业化，交给他们了！

    而且这还不是它的终点，富勒烯光刻胶绝对可以更深的研究下去。

    作为拥有它们资料的人，宋问声是再清楚不过的了。

    咱们华夏藏着一些技术，外国未必没有，去年年底的时候，asml即已经提出了3nm光刻机产业化。

    他们甚至想要延续摩尔定律，将半导体工艺再未来几年内推进到1nm，但是工艺发展到3nm就已经进行不下去了。

    各种各样的东西桎梏着发展。

    材料、设备、制造……

    他们一个一个问题都被解决了，剩下光源和光刻胶这两个问题始终难以解决和替代。

    可是在asml收购美国光源制造商cymer之后，光源问题得到了解决，那就剩下一个问题——光刻胶。